在半導(dǎo)體芯片加工、精密電子制造、生物醫(yī)藥等高端工業(yè)領(lǐng)域，水質(zhì)純度直接決定產(chǎn)品良品率與生產(chǎn)穩(wěn)定性，尤其是芯片制程中，用水需杜絕任何離子雜質(zhì)，普通凈水工藝根本無(wú)法滿足嚴(yán)苛標(biāo)準(zhǔn)。EDI超純水設(shè)備作為融合離子交換膜、離子電遷移技術(shù)的新型凈水裝備，憑借綠色高效、水質(zhì)穩(wěn)定的核心優(yōu)勢(shì)，成為高端工業(yè)超純水制備的優(yōu)選方案，徹底打破傳統(tǒng)凈水工藝的局限，助力高端制造業(yè)提質(zhì)增效。

　　EDI(電去離子)超純水設(shè)備，是集電滲析與離子交換技術(shù)于一體的深度脫鹽設(shè)備，核心原理是在直流電場(chǎng)作用下，通過(guò)離子交換樹(shù)脂吸附水中微量離子，再借助電場(chǎng)驅(qū)動(dòng)離子定向遷移，同時(shí)利用水電解產(chǎn)生的氫離子與氫氧根離子，實(shí)現(xiàn)樹(shù)脂連續(xù)自我再生。相較于傳統(tǒng)離子交換工藝依賴(lài)酸堿再生、易產(chǎn)生廢液污染、水質(zhì)波動(dòng)大的弊端，EDI設(shè)備無(wú)需化學(xué)再生藥劑，運(yùn)行全程無(wú)污染物排放，既契合綠色生產(chǎn)理念，又省去廢液處理成本，運(yùn)維效率大幅提升。

　　在實(shí)際工業(yè)應(yīng)用中，EDI超純水設(shè)備常搭配雙反滲透、拋光混床組成完善制水工藝，層層凈化保障水質(zhì)達(dá)標(biāo)。前期反滲透系統(tǒng)作為預(yù)處理核心，依托反向滲透原理，高效濾除水中溶解鹽類(lèi)、膠體、有機(jī)物及大分子物質(zhì)，大幅降低水中離子含量，為后續(xù)EDI深度脫鹽奠定基礎(chǔ);EDI設(shè)備承接預(yù)處理產(chǎn)水，進(jìn)一步深度脫鹽，出水電阻率穩(wěn)定≥15MΩ·CM，可實(shí)現(xiàn)24小時(shí)連續(xù)不間斷運(yùn)行，自動(dòng)化程度高，無(wú)需人工頻繁值守;終端拋光混床則作為精制環(huán)節(jié)，將水中離子含量降至PPB級(jí)別，最終出水電阻率可達(dá)18.2MΩ·CM，完全契合半導(dǎo)體芯片加工的超純水需求。